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          除了光刻機中國芯片還缺發光刻膠和技術人才

          原創文章 發布人:出處 發布時間:2023-06-20 10:09

            在這個以科技作為核心競爭力的時代,擁有先進的高新科技和技術,這無疑是發展的重要關鍵點所在。近幾十年來,我國在科技方面的進步速度也是非常迅速,在很多科技領域上,都逐漸地追趕上了西方的步伐。中國科技的崛起,也是我國穩健的發展步伐。在一些技術領域方面的缺陷是比較明顯的,由于早期我們的起步就比較晚了,所以現在想要有所提升,也許要付出更多的努力。

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            近期以來,在全球范圍內的科技領域當中,芯片成為了熱門話題。作為很多高新產業必不可少的零部件,其重要性不言而喻。就目前來看我國在高端芯片的領域當中,和世界頂尖水平還是存在著較大的差距的。在這方面最讓大家頭疼的其實就是芯片制造領域,我國雖然有很多的一些芯片研制能力提升,但是最主要的一個缺陷就在于光刻機的研制。但是如果仔細的來分析中國現在的發展的話,我們缺的不僅僅是光刻機,就算現在能夠買進光刻機在其他方面的欠缺也還是比較明顯的。除開主要的光刻機之外在光刻膠的發展上也是我們的短板,在芯片上的一些生產材料都是我們比較難以補上的。

           光刻機是大家已經非常清楚的,另一種東西就是光刻膠,光刻膠是在芯片生產過程當中,關于一些細微圖形加工的關鍵材料。它和早期的照相機沖洗膠卷其實是一樣的道理,由于是一種有機化合物,在被紫外線曝光之后,就會產生變化,而我國關于芯片的研制是非常有突破的,所以即使有了這一技術,也還沒有無法在這方面進行補助,所以想要自主生產芯片,困難還是比較大。由于光刻膠的分辨率遠遠要高于普通的膠卷,所以它是需要用顯微鏡才能看清楚的,這也在制造過程當中帶來了更多的難題。

            其它另一個難點,可能聽說過的人就比較少了。我國芯片發展的另一大難題,正是被稱為芯片之母的EDA。所謂的EDA,指的就是電子設計自動化,其是一種利用計算機輔助設計軟件,來進行超大規模集成電路芯片的功能設計、版圖、物理設計、設計規則檢查等流程的技術。

            除開技術之外,它的生產還涉及了專利以及保護的問題,國內的公司即使知道了它的一些配方和生產工藝,也是無法完成自主生生產的,畢竟受到了專利的保護,所以這也是我們在新品建設領域難以發展的一大原因。即使近年來我們的發展比較有優勢,但是想要獲得一些更好的能力成就也還是比較困難的,我們在高端制造領域難以達到標準,想有所發展就更要克服困難。


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